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立方氮化硼(cubic boron nitride, CBN)晶體,是一種人工合成的III-V族半導體材料,目前,人們還沒(méi)有發(fā)現天然存在的CBN晶體。研究表明,CBN的禁帶寬度(~6.4eV)是 III-V族化合物和IV族元素半導體中大的,硬度和熱導率僅次于金剛石。作為電子材料和光電子材料,CBN具有廣闊的應用前景,所以在材料的制備、物 理性質(zhì)的研究及應用等方面受到人們的極大關(guān)注。但由于生長(cháng)條件苛刻,很難獲得高質(zhì)量、大尺寸的CBN單晶或薄膜材料,這極大地限制了相關(guān)的研究進(jìn)展。 本論文以一種高溫高壓條件下合成的具有顏色分區的片狀CBN單晶(商品型號:210型)為研究對象,該樣品外露的8個(gè)表面均為{111}晶面,其中上下兩 個(gè)大面相互平行,平整光滑,且易于解理加工,很適合作為電子器件和光電器件的襯底材料。因此有必要對這種CBN晶體的物理和化學(xué)性質(zhì)進(jìn)行深入的研究。 本文主要采用化學(xué)腐蝕、形貌觀(guān)測、X射線(xiàn)光電子譜(X-ray photoelectronspectroscopy, XPS)、拉曼(Raman)光譜等手段,對210型CBN單晶樣品的表面極性、雜質(zhì)和缺陷等進(jìn)行了研究,得到一些有意義的研究結果。
1.主要從CBN合成及其半導體特性研究等方面介紹了相關(guān)的研究進(jìn)展和研究所面臨的困難,并概括了本論文的主要研究工作。
2.主要介紹了目前已知CBN基本的物理和化學(xué)性質(zhì),制備工藝以及一些主要的應用研究。
3.主要研究了210型CBN晶體的化學(xué)腐蝕、表面形貌、I-V特性等與表面極性的關(guān)系,并找到了一種方便、快捷、非破壞性的判斷210型CBN單晶表 面極性的方法——顯微鏡觀(guān)察法。 本文使用的210型CBN晶體是具有明顯顏色分區的片狀樣品,所有外露的晶面都是{111}面。其中上下兩個(gè)大面相互平行,六個(gè)小側面兩兩相對且相互平 行。在顯微鏡下觀(guān)察CBN的六邊形大面,會(huì )發(fā)現三個(gè)三角形琥珀色區域和三個(gè)三角形透明區域相間且對稱(chēng)分布,六個(gè)三角形有共同的頂點(diǎn),位于樣品的中央。 研究結果表明:熔融的NaOH能夠腐蝕CBN晶體,{111}N面的腐蝕速度快,腐蝕坑為三角形或六邊形,且腐蝕坑尺寸較大。而{111}B面的腐蝕速度 慢,腐蝕坑均為三角形,腐蝕坑較小,且特別密集。進(jìn)一步觀(guān)察發(fā)現:與透明區連接的側面為{111}B面,與琥珀色區域連接的側面為{111}N面;與側面 為{111}N面成鈍角的大面為{111}B面,與側面為{111}N面成銳角的大面是{111}N面。于是,只需顯微鏡觀(guān)察能確定這種顏色分區的片狀 CBN晶體表面極性,而不再需要化學(xué)腐蝕。 將CBN晶體沿{110}面解理并在熔融的NaOH中腐蝕后發(fā)現:{110}面的腐蝕形貌有兩種:一種是沒(méi)有出現腐蝕坑,并且表面光滑平整。因為 {110}面腐蝕速度相同,不存在各向異性,因此觀(guān)察不到腐蝕坑;另一種是在{110}面觀(guān)察到條狀的腐蝕坑。 210型CBN共面I-V特性結果表明: N面的表面漏電流明顯比B面的表面漏電流大。
4.主要通過(guò)XPS譜分析了CBN晶體中的雜質(zhì)、缺陷及其化學(xué)態(tài)。結果表明:CBN晶體中含有C、O、Si雜質(zhì)。Si含量極少,可能來(lái)自于hBN原材 料。Ar離子濺射后,O雜質(zhì)的含量急劇降低,表明O雜質(zhì)源于CBN晶體的表面吸附和沾污。濺射后CBN中依然含有大量的C雜質(zhì)(~6at%),說(shuō)明除了部 分的C雜質(zhì)以表面吸附和沾污形式存在外,還有相當一部分的C雜質(zhì)存在于CBN晶體內,這些C雜質(zhì)可能來(lái)自于CBN晶體生長(cháng)室的石墨壁。通過(guò)峰型擬合和化 學(xué)態(tài)分析可知:C在CBN晶體中占據了氮的位置(CN),成為受主雜質(zhì)。Ar離子濺射前后,B和N的原子比均大于1,化學(xué)計量比的偏離說(shuō)明在CBN晶體中 存在N空位(VN),VN屬于施主陷阱。VN-CN可形成施主-受主對,不僅影響CBN的電學(xué)特性,也影響CBN晶體的發(fā)光特性,使得CBN發(fā)光譜復雜 化。進(jìn)一步研究可知,XPS譜也受CBN晶體表面極性的影響。濺射前,N面比B面的B:N比低;濺射后,B面的B:N比降低,而N面的B:N比升高。從濺 射前C1s譜的擬合結果可看出,N面可能存在C-N-B鍵,或者N面的缺陷較多;B面可能存在C-B-N鍵。
5.主要研究了210型CBN單晶的Raman光譜。結果表明:CBN晶體的Raman也表現出與B、N面極性相關(guān)的特點(diǎn)。對于(111)B面,只觀(guān)察 到TO模(1053cm~(-1))和LO模(1305cm~(-1)53cm~(-1)處還觀(guān));測而到對邊于峰(結11構1)。N面從,等除離了子激 TO元?!蚅O L O聲模子,相在互作92用5c、m-1,955cm~(-1),12局域模、富硼、wBN及無(wú)序引起的拉曼散射(disorder-activated Raman scattering,DARS)五個(gè)方面分析邊峰的來(lái)源。{111} N面的缺陷多,因此,遠離布里淵區中心的聲子也可能發(fā)生散射,導致邊峰的出現。925cm~(-1)處的峰可視為布里淵區K點(diǎn)的TO模式 TO(K),955cm~(-1)附近的峰和Q點(diǎn)的TO聲子能量接近TO(Q)。1253cm~(-1)處的拉曼峰和布里淵區特殊點(diǎn)的聲子頻率吻合的不 好,但可能是布里淵區非對稱(chēng)點(diǎn)的聲子對CBN拉曼光譜綜合貢獻的結果。因此,認為1253cm~(-1)處的拉曼峰也是由DARS引起的。{111}B面 沒(méi)有邊峰,因為B面的缺陷少,沒(méi)有DARS現象出現。